2
技術開発名 高エネルギー負イオンビーム調整・照射
キーワード ・ 材料表面改質  ・ 高機能材料開発   ・ 材料プロセス技術
・ 高熱負荷    ・ 負イオンビーム照射  
担当代表者名 竹 入 康 彦
所属・役職名 プラズマ加熱物理研究系 ・ 教授
所内共同開発者名
(所属・役職名)
金 子   修
(プラズマ加熱物理研究系 ・ 教授)
技術開発分野
(●が該当)
・ ライフサイエンス      ・ 情報通信     ・ 環境
 ● ナノテクノロジー,材料 ● エネルギー  ● 製造技術
 ・ 社会基盤          ・ フロンティア   ・ その他
技術開発概要 大型水素負イオン源(ビーム電流 10A以上)または小型水素負イオン源(ビーム電流1A程度以下)により、高エネルギー(40 - 130 keV)の負イオンビームを生成する。イオン種は水素であるが、その他、負イオンの得られるガスを使用することも可能。イオン源を新たに製作することによ り(設計・製作を行うことも可能)、小電流や特殊イオンビームを利用することも可能。ビームの照射可能面積は 25cm×25cm程度以下(微小面積も可能)、熱負荷は2kW/cm2程度以下、流子束は1x1017cm-2s-1程度以下。
共同開発等可能分野・用途,創造性等
  • 負イオンビームを基板に照射することにより、材料の表面処理、改質、 新材料の開発、プロセス技術の開発、等を行うことができる。既存の 正イオンビームを用いた技術とは異なる新しい技術分野を開拓する可 能性があり、それを用いた新機能材料の開発の可能性がある。
  • 大電力ビームを生成することが可能なので、材料への高熱負荷試験を行うことができ、新たな高耐熱材料の開発を行うことができる。
  • 負イオンビームの生成・加速に必要な電源等の設備が整っているため、 新型の負イオン源の開発、ビーム技術の開発等に利用することができ、それを用いた新しい材料プロセス技術の開発も行うことができる。
主な使用可能機器名 大電力負イオンビームテストスタンド
知的所有権
(名称・特許番号または出願番号等)
 
一覧へ